ログイン
言語:

WEKO3

  • トップ
  • ランキング
To
lat lon distance
To

Field does not validate



インデックスリンク

インデックスツリー

メールアドレスを入力してください。

WEKO

One fine body…

WEKO

One fine body…

アイテム

  1. Public
  2. 研究紀要
  3. 理工学部研究報告
  4. 42(2006)
  1. Private
  2. 研究紀要
  3. 理工学部研究報告
  4. 42(2006)

PLD法によるハイドロキシアパタイト被膜形成

https://kindai.repo.nii.ac.jp/records/9590
https://kindai.repo.nii.ac.jp/records/9590
a2baffeb-a5b8-4534-8787-7ba358734897
名前 / ファイル ライセンス アクション
AN00064168-20060930-0087.pdf AN00064168-20060930-0087.pdf (1.7 MB)
Item type ☆紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1)
公開日 2010-10-26
タイトル
タイトル PLD法によるハイドロキシアパタイト被膜形成
タイトル
タイトル Hydroxyapatite Coating Formed by Pulsed Laser Deposition
言語 en
著者 石橋, 圭介

× 石橋, 圭介

石橋, 圭介

ja-Kana イシバシ, ケイスケ

Search repository
百々, 正洋

× 百々, 正洋

百々, 正洋

ja-Kana ドド, マサヒロ

Search repository
片山, 博貴

× 片山, 博貴

片山, 博貴

ja-Kana カタヤマ, ヒロタカ

Search repository
橋新, 裕一

× 橋新, 裕一

橋新, 裕一

ja-Kana ハシシン, ユウイチ

Search repository
中山, 斌義

× 中山, 斌義

中山, 斌義

ja-Kana ナカヤマ, タケヨシ

Search repository
言語
言語 jpn
キーワード
主題 Pulsed laser deposition (PLD), Hydroxyapatite, Implant material
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ departmental bulletin paper
著者(英)
言語 en
値 Ishibashi, Keisuke
著者(英)
言語 en
値 Dodo, Masahiro
著者(英)
言語 en
値 Katayama, Hirotaka
著者(英)
言語 en
値 Hashishin, Yuichi
著者(英)
言語 en
値 Nakayama, Takeyoshi
著者 所属
値 近畿大学大学院総合理工学研究科
著者 所属
値 近畿大学大学院総合理工学研究科
著者 所属
値 近畿大学大学院総合理工学研究科
著者 所属
値 近畿大学理工学部電気電子工学科
著者 所属
値 近畿大学理工学部電気電子工学科
版
出版タイプ NA
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_be7fb7dd8ff6fe43
出版者 名前
出版者 近畿大学理工学部
書誌情報 近畿大学理工学部研究報告
en : Journal of the Faculty of Science and Engineering, Kinki University

号 42, p. 87-92, 発行日 2006-09-01
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 03864928
抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 Hydroxyapatite (HAp: Ca_10(PO_4)_6(OH)_2) coating methods are key technologies for improving the biocompatibility of implant materials. The coated HAp films are deposited on Ti substrate by use of the pulsed laser deposition (PLD) method under the different water atmosphere pressure, and are treated by using a post-annealing method under condition of the different annealing temperature. The coated HAp films are characterized using the scanning electron microscopy (SEM), electron probe X-ray microanalysis (EPMA), X-ray diffraction (XRD) and atomic force microscope (AFM). The ratio of Ca to P (Ca/P) in the coated films fabricated under the water pressure of 0.1 Torr is shown a quite high value, and is decreased as the value of water pressure increase. Furthermore, the HAp films treating with an annealing temperature of 400 ℃ are shown high crystallinity.
内容記述
内容記述タイプ Other
内容記述 本文データの一部はCiNiiから複製したものである。
フォーマット
内容記述タイプ Other
内容記述 application/pdf
戻る
0
views
See details
Views

Versions

Ver.1 2023-06-20 20:24:13.074814
Show All versions

Share

Mendeley Twitter Facebook Print Addthis

Cite as

エクスポート

OAI-PMH
  • OAI-PMH JPCOAR 2.0
  • OAI-PMH JPCOAR 1.0
  • OAI-PMH DublinCore
  • OAI-PMH DDI
Other Formats
  • JSON
  • BIBTEX

Confirm


Powered by WEKO3


Powered by WEKO3