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  1. Public
  2. 研究紀要
  3. 工業高等専門学校研究紀要
  4. 2(2008)
  1. Private
  2. 研究紀要
  3. 工業高等専門学校研究紀要Research reports Kinki University Technical College
  4. 2(2009)

4端子型FinFETを用いた簡素化論理ゲートの構成

https://kindai.repo.nii.ac.jp/records/12881
https://kindai.repo.nii.ac.jp/records/12881
04417c5a-4206-4a78-934b-715177e903f5
名前 / ファイル ライセンス アクション
AA12315376-20090115-0037.pdf AA12315376-20090115-0037.pdf (327.2 kB)
Item type ☆紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1)
公開日 2014-09-12
タイトル
タイトル 4端子型FinFETを用いた簡素化論理ゲートの構成
タイトル
タイトル Simplified Logic Gate Architecture using 4-terminal type FinFETs
言語 en
著者 嶋野, 彰夫

× 嶋野, 彰夫

嶋野, 彰夫

ja-Kana シマノ, アキオ

Search repository
言語
言語 jpn
キーワード
主題 Semiconductor Device, field effect transistor, FinFET, logic gate, Threshold Voltage, device simulation
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ departmental bulletin paper
著者(英)
言語 en
値 SHIMANO, Akio
著者 所属
値 近畿大学工業高等専門学校電気情報工学科
著者所属(翻訳)
値 Kinki University Technical College
版
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
出版者 名前
出版者 近畿大学工業高等専門学校
書誌情報 近畿大学工業高等専門学校研究紀要
en : Research reports Kinki University Technical College

巻 2, p. 37-41, 発行日 2009-01-01
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 18824374
抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 [Abstract] 4-terminal type FinFET, which has been proposed as a threshold-voltage controllable device, has a special potential to become a main device for high-density and high-performance VLSI. This paper describes the results of investigation on electrical characteristics of two types of 4-terminal type FinFET's for each Nch/Pch. 4-terminal type FinFET has itself a 2-input logical function like as parallel-connected FET's or series-connected FET's. Device simulation shows that NOR/NAND logic gates can be constructed by the specified combination of Nch/Pch 4-terminal type FinFET's using a half number of devices compared by conventional FET construction. Second gate bias dependence of first channel threshold voltage has been investigated on theoretical fully-depletion capacitance model analysis and experimental simulation analysis. Thinner Silicon layer on which channel will be created gives a better result for high-performance 4-terminal type FinFET due to large threshold voltage variation.
フォーマット
内容記述タイプ Other
内容記述 application/pdf
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Ver.1 2023-06-20 18:44:06.308866
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